CMP는 고정 링 - Techtron® PPS 튜브를

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CMP 고정 링의 개요 - Techtron® PPS 튜브

CMP 장비에 사용되는 링을 보유 Techtron® PPS CMP는 고순도 및 장기 착용 TECHTRON PPS를 사용합니다.

PPS는 강한 화학 물질 및 연마재에 반복적으로 노출을 견딜 수 있어야 화학 기계적 평탄화 (CMP) 동안 300mm 반도체 웨이퍼를 보유 반지를 보유. 반도체 조립 업체는 CMP 링에 필요한 강성, 순도와 인성을 얻을 수 있다는 한 가지 방법은 Techtron® PPS에서 가공 링을 사용하는 것입니다. 이 모양은 Fortron®의 폴리 페닐 렌 설파이드 (PPS)의 독점 학년에서 만들어집니다.

Techtron® PPS 모양은 현저하게 아세탈, 폴리 에스테르 및 일반 PPS에 비해 링의 수명을 연장. 프로세스의 경험은 Techtron® PPS 재고 모양으로 만든 링이 다른 일반적인 PPS 소재로 만들어진 반지 1,000 ~ 2,000 사이클에 비해 2,000 ~ 5,000 CMP 사이클을 견딜 수 있음을 보여줍니다.

회로는 그것에 에칭되기 전에 CMP에있어서, 반도체 웨이퍼 상에 실리콘 이산화물, 알루미늄, 구리 또는 다른 물질 층을 연마하여 정확한 평탄하다. 사용 된 슬러리의 pH는 마모성 및 표면 재료에 따라 변화한다. CMP 중에 연마 패드는 세라믹 기재 상에 장착 및 고정 링에 유지 웨이퍼에 대해 회전한다. 연마제 견딜 외에도 링 치수 안정해야하고 연마하는 동안 휘어 없다.

Techtron® PPS 공백은 12 24 인치 길이에 0.33에서 1.0로 높이가 변화하는 유지 반지로 가공되어 튜브입니다. 300mm 웨이퍼로 사용되는 12 인치 직경 반지 (ID) 0.375의 벽 두께가 2.5 인치 Techtron® PPS 링 블랭크에 사용 치핑 깨는 감소시키고, 최대 25 %의 인장 신율을 갖는다 고 인성 그룹이다.