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濕法 - 台晶圓廠(3559-WB)

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濕法 - 台晶圓廠(3559-WB)
  

Overview of Wet Process - Bench Fab (3559-WB)

— 濕長凳在一個晶圓廠用於清潔碎片和/或蝕刻掉不希望的或從晶片不再需要的薄膜。它們也可用於在整個過程的下一個步驟製備晶片“表面。不太複雜的濕式工作台常常在為Fab用於清潔石英等半導體設備的部件。濕長凳通常製造為用酸或鹼的化學相容性。基礎化學濕台通常被稱為溶劑長凳。您可以立即識別出溶劑台,因為它是由不銹鋼製成。它通常集成了滅火,由於溶劑的危險爆發點。 ACID濕式工作台是遠在晶圓廠更豐富,他們正在構建的塑料。 大多數晶圓廠要求對進行工廠相互認可的塑料像FM4910,這種防火塑料是昂貴的,但它往往要求有資格獲得保險酸濕長凳 。濕板凳多個浴場大小以適應批次的淹沒或晶圓的“批”(坦克)之一。類型包括;在線路直線 - 旋轉工作台 - 從前到後 - 一旦通過浴。專業塑料提供全系列的標準和FM認證濕替補,並在半導體行業,包括使用濕法材料; PP,CP7D,PVDF,PFA,Halar®,PVC,PVC-C,CPVC,PTFE及更多。產品在板材,棒材,焊條,管與製件可用。

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