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湿法 - 台晶圆厂(3559-WB)

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湿法 - 台晶圆厂(3559-WB)
  

Overview of Wet Process - Bench Fab (3559-WB)

— 湿长凳在一个晶圆厂用于清洁碎片和/或蚀刻掉不希望的或从晶片不再需要的薄膜。它们也可用于在整个过程的下一个步骤制备晶片“表面。不太复杂的湿式工作台常常在为Fab用于清洁石英等半导体设备的部件。湿长凳通常制造为用酸或碱的化学相容性。基础化学湿台通常被称为溶剂长凳。您可以立即识别出溶剂台,因为它是由不锈钢制成。它通常集成了灭火,由于溶剂的危险爆发点。 ACID湿式工作台是远在晶圆厂更丰富,他们正在构建的塑料。 大多数晶圆厂要求对进行工厂相互认可的塑料像FM4910,这种防火塑料是昂贵的,但它往往要求有资格获得保险酸湿长凳 。湿板凳多个浴场大小以适应批次的淹没或晶圆的“批”(坦克)之一。类型包括;在线路直线 - 旋转工作台 - 从前到后 - 一旦通过浴。专业塑料提供全系列的标准和FM认证湿替补,并在半导体行业,包括使用湿法材料; PP,CP7D,PVDF,PFA,Halar®,PVC,PVC-C,CPVC,PTFE及更多。产品在板材,棒材,焊条,管与制件可用。

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